ポリシルセスキオキサン系ゲート絶縁膜の開発と有機TFTへの応用 (特集 ケイ素系ハイブリッドポリマーおよびネットワークポリマーの材料展開)
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概要
著者
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松川 公洋
大阪市立工業研究所
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松川 公洋
(地独)大阪市立工業研究所電子材料研究部
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松川 公洋
地方独立行政法人 大阪市立工業研究所 電子材料研究部ハイブリッド材料研究室
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Naito H
Univ. Osaka Prefecture Osaka
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内藤 裕義
大阪府立大学工学部電子物理工学科
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Naito H
College Of Engineering Osaka Prefecture University
-
Naito Hiroyoshi
Department Of Physics And Electronics University Of Osaka Prefecture
-
Naito Hiroyoshi
Department Of Physics And Electronics Osaka Prefecture Univerity
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Naito H
Osaka Prefecture Univ. Osaka Jpn
-
内藤 裕義
大阪府立大学 先端科学研究所
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内藤 裕義
大阪府立大学大学院 工学研究科 電子・数物系専攻
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