重合・縮合2元型光開始剤によるアクリレート/シリケート系ハイブリッドの生成
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
- 2000-06-22
著者
-
松浦 幸仁
大阪市立工業研究所
-
松川 公洋
大阪市立工業研究所
-
井上 弘
阪市工研
-
松浦 幸仁
阪市工研
-
松川 公洋
阪市工研
-
松川 公洋
(地独)大阪市立工業研究所電子材料研究部
-
松川 公洋
地方独立行政法人 大阪市立工業研究所 電子材料研究部ハイブリッド材料研究室
関連論文
- 高屈折率有機無機ハイブリッドの光学材料への展開(ポリマー光回路,光機能性材料,一般)
- ポリシラン-シリカナノ粒子ハイブリッド薄膜の作製と光学特性
- レーザー顕微ラマン分光法の基礎と応用
- 屈折率変調特性を有する有機・無機ハイブリッド材料
- ポリシラン-メタクリルブロック共重合体の合成とポリシラン-イットリアハイブリッド薄膜作製への応用 (報文特集)
- PA07 Auグレーティング上におけるネマティック液晶のアンカリング特性(2004年日本液晶学会討論会)
- 有機ポリシラン無機ハイブリッド薄膜の光機能性と表面構造
- ジルコニア中に分散させたポリジヘキシルポリシランにおけるサーモクロミズムの抑制(センサデバイス・MEMS・一般)
- 有機ポリシラン-シリカハイブリッド薄膜の光機能性 (特集 機能に富んだ材料シリコン)
- 新結晶・新物質 新しい光機能性材料としての有機無機ハイブリッド薄膜--ポリシラン-シリカハイブリッド薄膜
- SC-6-7 有機ポリシランーシリカハイブリッド薄膜の光物性
- 有機ポリシラン-チタニアハイブリッド薄膜の光物性
- 有機ポリシランを分散させたハイブリッド膜の光学特性
- 解説 ポリシランを含んだ有機無機ハイブリッド薄膜 (特集 先進機能性高分子材料)
- 重合・縮合2元型光開始剤によるアクリレート/シリケート系ハイブリッドの生成
- ホスフィンオキシドを有するシルセスキオキサンとユーロピウム錯体との配位型ハイブリッドの作製
- ジルコニアナノ粒子含有ポリアクリレート薄膜の作製とその光学特性
- 近赤外分光法による二軸押出溶融EVA樹脂のオンライン分析
- 二軸押出機による溶融樹脂の近赤外オンラインモニタリング
- 酸化ジルコニウムスラリーによるポリマーハイブリッドの光学特性
- ジルコニア中に分散させたポリジヘキシルポリシランにおけるサーモクロミズムの抑制(センサデバイス・MEMS・一般)
- 無機高分子研究会 有機-無機ハイブリッドによる材料革命を目指して
- 有機無機ハイブリッドの光機能性材料への応用
- ゾル・ゲル法を用いて銀上に作製した有機・無機ハイブリッド防錆コーティング
- 炭素官能性アルコキシシラン類の光硬化(9)ジアクリレート/シリケート系有機・無機ハイブリッドの合成 (報文特集)
- 炭素官能性アルコキシシランの光重合による有機・無機ハイブリッドへの展開 (技術特集 カチオン硬化技術の工業展開)
- アリル基及びアルコキシシリル基末端ポリカ-ボネ-トオリゴマ-の合成
- アクリル酸シロキサンフェニルエステルの合成と光架橋物特性
- 全芳香族ポリイミドシロキサンの合成と物性
- 12-ヒドロキシステアリン酸から誘導されるアルコキシシラン化合物の合成と性質 (報文特集)
- ピリジン置換ジアミド酸と塩化第二銅から誘導された高分子錯体
- ピリジン変性ポリアミド酸/塩化第二銅錯体溶液の粘度変化
- ヒドロシリレーション反応によるフェノール基含有ポリカルボシロキサンの合成
- ピリジン変性ポリイミド/塩化第二銅錯体薄膜の表面特性
- ガラスマトリックス中に分散させた有機ポリシランの光物性
- ポリエチレンオキシド系ポリマーの橋架け反応によるヒドロゲルの作製
- ピリジン変性ポリイミドおよびその塩化第二銅錯体の合成
- ポリシランハイブリッド膜の発光特性
- ポリシランハイブリッド膜の発光特性
- 炭素官能性アルコキシシラン類の光硬化(III)アクリル官能性アルコキシシランの重合・縮合2元型光磁化 (特集 潜在性硬化系の開発とネットワークポリマーへの応用)
- ブリストル大学 化学教室
- 特集「機能性コーティング」の発刊にあたって
- 赤外分光分析(FT-IR)
- ビスフェノールシロキサンの開発とその応用
- Organosilicon Symposium に参加して
- シリコ-ン-MMA系グラフト ・ ブロック 共重合体の合成とその表面特性
- n-ドデシルベンゼンスルホン酸で架橋したシクロテトラシロキサン基含有メタクリル酸エステル-メタクリル酸メチル共重合体のESCA分析
- カルバゾリルシロキサン側鎖を有するコポリシランの合成と表面電位減衰特性
- 炭素官能性アルコキシシラン類の光硬化(8)ベンゾインスルホネートによるメタクリル基含有アルコキシシランの光硬化
- 炭素官能性アルコキシシラン類の光硬化(7)メタクリル基含有トリメトキシシランの光硬化
- シリコ-ン-PMMA系グラフト・ブロック共重合体ブレンドフィルムのESCA表面分析
- ヒドロキシフェニル基置換オリゴシロキサンの合成とその平衡重合
- 炭素官能性アルコキシシラン類の光硬化 II. ビニル基含有アルコキシシランの光硬化
- 炭素官能性アルコキシシラン類の光硬化 I. エポキシ基含有アルコキシシランの光硬化
- シロキサン含有芳香族ポリイミドの合成とその接着性
- シクロテトラシロキサン基含有メタクリレート共重合体の表面特性
- 解説XIII「新しいエレクトロニクス関連材料とデバイス」を始めるにあたって
- ポリシルセスキオキサン系ゲート絶縁膜の開発と有機TFTへの応用 (特集 ケイ素系ハイブリッドポリマーおよびネットワークポリマーの材料展開)
- シクロテトラシロキサン基含有メタクリル酸エステル共重合体の架橋
- NIR-FT-Raman分光法によるポリオレフィンの結晶化度の評価
- シリカナノ粒子を分散した塗布型有機トランジスタのデバイス特性(有機材料・一般)
- 高分子材料の屈折率制御 金属酸化物ナノ粒子を用いた高屈折率材料
- 23 シロキサン結合を有するエポキシ樹脂の合成と硬化物物性
- 炭素官能性アルコキシシラン類の光硬化:III アクリル官能性アルコキシシランの重合・縮合2元型光硬化