希塩酸を用いた両面加工法によるBi2Sr2CaCu2O8+x結晶内部への固有Josephson接合スタック作製プロセス
スポンサーリンク
概要
著者
関連論文
- Si添加による立方晶窒化ホウ素薄膜の密着性向上と厚膜化
- パルスレーザー堆積法によるCr-Cu-N-O薄膜の作製
- パルス細線放電法によるZnFe_2O_4超微粒子の作製
- パルスイオンビームアブレーションによる飛翔体加速効率の最適化
- 希塩酸処理プロセスを用いたBi系SQUIDの作製法(ジョセフソン接合・材料,一般)
- 金属超微粒子回収のためのパルス細線放電装置用静電捕集装置の開発
- パルスイオンビーム蒸着法によるSi_Ge_x固溶体薄膜の作製
- パルスレーザー堆積法により作製したCr-Mg-N-O薄膜の酸化挙動
- パルスレーザー堆積法により作製したCr(N, O)薄膜の組織観察
- 自己平坦化法で作製したBi_2Sr_2CaCu_2O_xスタックのリターン電流の温度特性(電子デバイス, 一般)
- 塩酸で改質させた高温超伝導Bi-2212単結晶表面の物性評価(薄膜プロセス・材料, 一般)
- パルスイオンビーム蒸着法によるSi基板上のビアホールへのW埋込み
- パルス細線放電法によるSnO_2ナノ粒子の粒径分布
- パルスイオンビーム蒸着法を用いた堆積・反応同時プロセスによるHf-Si-O薄膜の作製
- パルスパワー技術による新材料合成
- パルス細線放電法による成膜実験
- パルス細線放電法におけるプラズマの挙動観察
- 希塩酸を用いた両面加工法によるBi2Sr2CaCu2O8+x結晶内部への固有Josephson接合スタック作製プロセス
- ケイ素を添加した酸窒化クロム薄膜の機械的特性とその微構造
- パルスイオンビームプロセス
- 希塩酸を用いた両面加工法によるBi_2Sr_2CaCu_2O_結晶内部への固有 Josephson 接合スタック作製プロセス
- パルス電流法によるBi-2212接合スタックの接合数評価(薄膜プロセス・材料,一般)
- 自己発熱がBi-2212固有ジョセフソン接合の発振特性に及ぼす影響(簿膜プロセス・材料,一般)