結晶方位の異なるCo薄膜における磁気光学効果
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概要
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- 1996-04-01
著者
-
藤谷 大輔
日大理工
-
片山 利一
産業技術総合研究所エレクトロニクス研究部門
-
片山 利一
電子技術総合研究所
-
鈴木 義茂
JRCAT
-
奥沢 信之
東京理科大大学院
-
鈴木 義茂
Jrcat-融合研
-
Geerts Wim
Texas Univ.
-
藤谷 大輔
日本大学理工学部
-
GEERTS W.
電子技術総合研究所
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