Formation of Bare Porous Surface on 6H-SiC Substrates by Photo-Electrochemical Etching
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概要
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A new method for obtaining a bare porous surface on 6H-SiC substrates is proposed. The use of photo-electrochemical etching to form a porous layer generally results in a skin layer being created. In situ observation of the etching process revealed that the skin layer can be peeled off by introducing a dark period at the end of the pore formation process. The dark condition changed the etching mode to an electropolishing mode and generated gas bubbles in the region immediately below the skin layer. The peeling of the skin layer is the result of lifting due to increased pressure in the confined bubbles.
- 2009-12-25
著者
-
Katsuno Hironobu
Research Institute Of Electronics Shizuoka University
-
Tanaka Akira
Research And Development Phadia Kk
-
Katsuno Hironobu
Research Institute of Electronics, Shizuoka University, 3-5-1 Johoku, Naka-ku, Hamamatsu 432-8011, Japan
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