反応性ニュートラルビームスパッタ法による酸化タンタル薄膜の作製 : N<SUB>2</SUB>ガス添加効果
スポンサーリンク
概要
著者
関連論文
- IBS法によるTbFeCo薄膜の作製
- 高分子フィルムを基板とする熱伝導真空計用薄膜真空度センサー
- プラズマ処理によるPPSフィルムの表面改質
- コバルト蒸着膜の磁気特性
- アブストラクト
- アブストラクト
- アブストラクト
- IBS法によるZnO薄膜の作製
- イオンビームスパッタ法によるa-Si : H膜の高速成長化 : 水素添加機構についての検討
- MIS型太陽電池の諸特性
- TaN薄膜素子を用いたピラニ型真空計の感度特性
- TaN薄膜素子を用いたピラニ型真空計の試作
- TaN薄膜素子を用いたピラニ型真空計の形状効果とガス依存性
- 光電変換素子を用いたボート温度の測定
- 同時蒸着法によるポリエチレン-銀複合膜の作製
- 反応性スパッタにより作製した酸化タンタル薄膜の特性
- 窒素ガスによりスパッタしたZr-N薄膜
- 反応性イオンビームスパッタ法によるZr-N薄膜の作製
- 反応性ニュートラルビームスパッタ法による酸化タンタル薄膜の作製 : N2ガス添加効果
- プラズマ処理によるPETの表面改質
- アブストラクト
- 低温におけるNb1-xNx薄膜の電気的特性 (第27回真空に関する連合講演会プロシ-ディングス--昭和61年11月12日〜14日,大阪)
- Zr-Nを用いた低温用温度計 (第27回真空に関する連合講演会プロシ-ディングス--昭和61年11月12日〜14日,大阪)
- 超音波センサによる圧力測定の可能性(速報) (第25回真空に関する連合講演会プロシ-ディングス--昭和59年10月29日〜31日)
- 低エネルギ-イオンを利用したDIBS法によるa-Si:H薄膜の作製(速報) (第25回真空に関する連合講演会プロシ-ディングス--昭和59年10月29日〜31日)
- 反応性イオンビ-ムスパッタによるTaCの作製 (第21回真空に関する連合講演会プロシ-ディングス)