還元窒化法によるサイアロン粉末の合成(1) : Z=0サイアロン(Si<SUB>3</SUB>N<SUB>4</SUB>)の合成
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概要
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The reaction mechanism of Si<SUB>2</SUB>-ZAlzOzN<SUB>8-z</SUB>(Z=O, Si<SUB>3</SUB>N<SUB>4</SUB>) that was synthesized by carbothermal reduction and nitridation in SiO<SUB>2</SUB>-C system was investigated on basis of the results of weight change, CO content, XRD analysis and thermodynamic calculation. It was suggested that Si3N4 was formed by following reactions.<BR>SiO<SUB>2</SUB>+C→SiO(g)+CO(g), SiO(g)+C+2N<SUB>2</SUB>→Si<SUB>3</SUB>N<SUB>4</SUB>+CO(g)……………(at low temperature)<BR>Si0<SUB>2</SUB>+CO(g)→SiO(g)+CO<SUB>2</SUB>(g), 3SiO(g)+3CO(g)+2N<SUB>2</SUB>→Si<SUB>3</SUB>N<SUB>4</SUB>+CO(g)…(at high temperature)<BR>SiC was formed at temperature above 1550°C. It was suggested that the formation of SiC occurred by following reactions.<BR>Si<SUB>3</SUB>N<SUB>4</SUB>+3SiO<SUB>2</SUB>→6SiO(g)+2N<SUB>2</SUB>, SiO(g)+2C→SiC+CO(g)
著者
-
井関 孝善
東京工業大学
-
宮田 昇
日本セメント(株)中央研究所
-
箱島 順一郎
日本セメント株式会社 中央研究所
-
山岸 千丈
日本セメント(株)
-
塚本 惠三
日本セメント(株)
-
山岸 千丈
日本セメント(株)中央研究部
-
塚本 惠三
日本セメント(株)中央研究部
-
宮田 昇
日本セメント(株)中央研究部
-
箱島 順一郎
日本セメント(株)中央研究所
-
箱島 順一郎
日本セメント(株)中央研究部
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