遊離 Si を含む SiC 反応焼結体の Ge による接合
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概要
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- 社団法人日本セラミックス協会の論文
- 1981-04-01
著者
-
井関 孝善
東京工業大学大学院理工学研究科材料工学専攻
-
井関 孝善
東京工業大学
-
山下 和彦
東京工業大学原子炉工学研究所
-
鈴木 弘茂
東京工業大学原子炉工学研究所
-
井関 孝善
東工大原子炉研
-
鈴木 弘茂
東京工業大学
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