並流型移動層反応器におけるSi_3N_4超微粒子のAlNによるCVD被覆
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概要
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- 社団法人 化学工学会の論文
- 1997-12-01
著者
-
石野 正剛
Division Of Materials Science And Engineering Graduate School Of Engineering Hokkaido University
-
篠原 邦夫
北海道大学大学院工学研究科物質工学専攻微粒子工学研究室
-
篠原 邦夫
Division Of Materials Science And Engineering Graduate School Of Engineering Hokkaido University
-
GOLMAN Boris
Division of Materials Science and Engineering, Graduate School of Engineering, Hokkaido University
-
Golman Boris
Division Of Materials Science And Engineering Graduate School Of Engineering Hokkaido University
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