19aFN-12 表面拡散のあるBallistic Deposition模型のスケーリング(19aFN 結晶成長,領域9(表面・界面,結晶成長)
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概要
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- 2012-08-24
著者
-
齋藤 幸夫
慶大理工
-
斎藤 幸夫
慶應義塾大学理工学部
-
斎藤 弥八
名大院工
-
勝野 弘康
名大理
-
齋藤 弥八
名大院工
-
Saito Y
Faculty Of Engineering Yamanashi University
-
斎藤 弥八
三重大学
-
Saito Y
Department Of Applied Physics Osaka University
-
Saito Y
Synchrotron Radiation Research Center Japan Atomic Energy Agency
-
Saitoh Yuji
Department Of Material Physics Osaka University
-
Saito Yahachi
Faculty Of Engineering Mie University
-
斎藤 幸夫
慶応大学理工学部物理
-
入澤 寿美
学習院大計セ
-
Saito Yoshihiko
Toshiba Corp. Semiconductor Materials Engineering Dept.
-
Saito Y
Department Of Electrical And Electronic Engineering Faculty Of Engineering Mie University
-
Saito Y
Toyota Central Res. And Dev. Lab. Inc. Aichi Jpn
-
勝野 弘康
学習院大計セ
-
Shigeta Yukichi
Institute Of Plasma Physics Nagoya University:department Of Physics Yokohama City University
-
Saito Yoshiaki
Hatano Research Institute (hri) Food And Drug Safety Center (fdsc)
-
長田 賢勇
学習院大理
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