G1100-1-2 油膜界面の水を利用した局所陽極酸化加工([G1100-1]機素潤滑設計部門一般講演(1))
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概要
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We have developed new micro surface processing techniques of Si by local anodic oxidation by chemical etching through silicon oil with water at the interface. After drawing micrometer-order SiO_2 mask thin film, line pattern more than 1 μm height at the Si surface was obtained through wet etching in KOH solution. The thickness of the mask film is estimated to be about 6 nm. In addition, we found that this process can be applicable for visualizing the trace of stick-slip vibration on Si.
- 一般社団法人日本機械学会の論文
- 2010-09-04
著者
-
鈴木 泰之
三重大学大学院工学研究科
-
小竹 茂夫
三重大学工学部
-
小竹 茂夫
三重大工
-
小竹 茂夫
三重大学大学院工学研究科
-
小竹 茂夫
三重大学大学院工学研究科機械工学専攻量子物性工学研究室
-
小竹 茂夫
三重大学工学部機械工学科
-
小竹 茂夫
三重大院・工
-
鈴木 泰之
三重大院・工
-
石田 泰介
三重大院・工
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