ナノインプリントリソグラフィーとモールド技術

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概要

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ナノインプリントリソグラフィー(NIL)は,微細パターンを高精度でかつ低コストで転写できる技術として注目されており,その応用が期待されている.NILは等倍転写技術であるため,モールドのパターン加工には高精度な加工技術が要求され,モールド加工技術がキーとなる.半導体リソグラフィーとは異なり,三次元構造など,複雑な構造加工も必要となる.本稿では,NILとモールド技術を説明し,最新のモールド加工例を示すとともに,NILによる転写例についても紹介する.
2011-06-01

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