超音波照射によるナノダイヤモンド微粒子の解凝集および表面改質に関する研究 : 超音波照射時間と粒度分布、ゼータ電位の関係および音響流回避の効果
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概要
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大記憶容量の小型ハードディスクやそのための磁気ヘッドの精密研磨を実現するために、微小で均一な粒径のナノダイヤモンドの研磨剤が必要とされている。当研究室では、そのために、超音波照射によって音響キャビテーションとともに発生する衝撃波を用いて、製造直後に凝集してしまったダイヤモンド微粒子を解凝集し、キャビテーションとともに発生する活性酸素(ヒドロキシルラジカル)を利用して表面電位(ゼータ電位)の大きさを増大させ、再凝集の防止を図る。本研究では、照射時間と粒度分布、ゼータ電位の関係および超音波照射装置の水槽内において発生する音響流を回避する工夫をした場合の効果について検討した結果を報告する。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2009-09-22
著者
-
川島 徳道
桐蔭横浜大学工学部
-
竹内 真一
桐蔭横浜大学医用工学専攻
-
川島 徳道
桐蔭横浜大学大学院工学研究科
-
青木 貴宏
桐蔭横浜大学医用工学部
-
内田 武吉
(独)産業技術総合研究所NMIJ
-
川島 徳道
桐蔭横浜大学医用工学部
-
竹内 真一
桐蔭横浜大学・工学部・医用工学科
-
川島 徳道
桐蔭横浜大
-
内田 武吉
産業技術総合研究所nmu(計測標準研究部門)
-
竹内 真一
桐蔭横浜大学
-
竹内 真一
桐蔭横浜大
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