25aD12 シリコン結晶化のナノテクノロジーへの応用(ナノ粒子・ナノ構造(2),第34回結晶成長国内会議)

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概要

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• Formation of nano-crystalline silicon films was reported. Pulsed laser was irradiated to 4nm-thick amorphous silicon thin films. There was a strong peak around 500cm^<-1> in Stokes Raman scattering spectra. This result suggested that nano-meters-size crystalline grains were densely formed by laser irradiation

• 日本結晶成長学会の論文
• 2004-08-25

著者

• 安藤 伸行

  東京農工大・工学教育部21世紀coeプログラム

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