等リプルFIRフィルタを設計するための逐次射影法の改善(フィルタ・フィルタバンク,信号処理,LSI,及び一般)
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概要
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逐次射影法を用いて等リプル特性を有するFIRフィルタを設計するためには,設計仕様としてチェビシェフの意味で最適な許容誤差をあらかじめ与える必要がある.しかし,そのような許容誤差を推測することは極めて困難であり,これまでは,数多くの設計を繰り返し行い,試行錯誤的に最適な許容誤差を見つける必要があった.本報告では,逐次射影法を用いたフィルタ設計において,試行錯誤的な手法を必要とせず,等リプルFIRフィルタを設計するための改善を試みる.提案法では,n+1回目の繰り返し時に必要な許容誤差を,n回目の繰り返し時における誤差関数のローカル極大値から算出し,所望周波数応答と設計されたフィルタの周波数応答の誤差の絶対値が等リプルになるまで繰り返す.すなわち,あらかじめ許容誤差を与えるのではなく,繰返し毎に変化させながら設計する.その結果,提案法では,一度の設計で等リプルフィルタを設計できるため,従来の逐次射影法に比べ,設計に要するトータル時間を大幅に短縮でき,かつ簡単に等リプルフィルタを設計できる.
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2008-06-20
著者
-
吉川 敏則
長岡技術科学大学
-
吉川 敏則
長岡技科大
-
吉川 敏則
長岡技術科学大学 工学部
-
杉田 泰則
長岡技術科学大学 工学部
-
杉田 泰則
長岡技術科学大学
-
平松 智大
長岡技術科学大学
-
古川 敏則
長岡技術科学大学工学部電気系
-
杉田 泰則
長岡技術科学大学電気系
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