原子間力顕微鏡を用いたシリコンウエハー金蒸着膜へのナノメータースケールのパターン加工
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概要
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微細加工により高密度で高機能な素子、部品を作り出すことが望まれている。本研究では、ナノメートルの分解能を持つ原子間力顕微鏡が加工も行えることを利用し、シリコンウエハー上に形成した金スパッタ蒸着膜に一定ピッチの多数溝加工を行っている。その方法は原子間力顕微鏡の鋭い探針を工具として試料表面を引っ掻く機械的方法であり、大気中で、1μm/secの速度で行っている。その結果、溝幅やピッチが40nm程度の微細加工が実現され、それらの限界値は用いた短針先端の曲率直径にほぼ等しいことが明らかになった。また、溝加工を行い得る限界の押し込み力が存在すること(金に対してこの探針では5μN)、一端に探針を持つカンチレバーのねじり変位が安定なパターン形成を阻害するものであることなど加工の因子が明確にされた。
- 近畿大学の論文
- 2002-02-28
著者
-
水谷 勝己
近畿大学生物理工学部
-
水谷 勝己
Department of Mechanical Engineering and Biomimetics, Kinki University
-
水谷 勝己
近畿大学生物理工学部基礎機械工学科
-
水谷 勝己
Department Of Mechanical Engineering And Biomimetics Kinki University
-
江頭 快
Department of Mechanical Engineering, Kinki University
-
大岡 正典
Department of Mechanical Engineering, Kinki University
-
水谷 勝己
近畿大 生物理工
-
江頭 快
京工繊大
-
大岡 正典
Department Of Mechanical Engineering Kinki University
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