4031 流体モデルとハイブリッドモデルによるプラズマ解析 : ウエハーインタフェースを中心に(F-4 フォーラム「産業用プラズマのモデリング」)
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概要
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Wafer interface and wafer processes based on interactions between incident particles from plasma and the surface will be one of the practical issues in the era of nano-scale device fabrications. The prediction will be performed through a series of multi-scale modeling over nm-m in space and over ps-ms in time. Examples of the present status will be discussed based on a continuum model and hybrid (fluid+particle) model.
- 2005-11-17
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