発光/OBIRCH解析とCADデータとの連動によるレイアウト解析の容易化(LSIシステムの実装・モジュール化・インタフェース技術,テスト技術,一般)

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概要

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• 近年の半導体プロセスの進展に伴い、不良解析の困難さが増している。その中の一つに発光顕微鏡やOBIRCH解析装置で検出した反応とレイアウト上のネットとを対応させるレイアウト解析がある。そこで、この作業効率を上げることを目的に、解析ナビゲーションシステムを開発した。これは、検出した反応情報をレイアウトビューアへ送信し、反応した位置を通過するネットを抽出し、各抽出ネットに対する反応通過頻度を表示することで、疑わしいネットを解析者に提示して解析を支援するものである。今回は、システムの概要と基本的な機能、および、新規追加機能について報告する。

• 2007-01-11

著者

• 寺田 浩敏

  浜松ホトニクス株式会社

• 堀田 和宏

  浜松ホトニクス(株)

• 寺田 浩敏

  浜松ホトニクス(株)

• 嶋瀬 朗

  (株)ルネサステクノロジ

• 真島 敏幸

  (株)ルネサステクノロジ

• 佐伯 光章

  (株)ルネサステクノロジ

• 内角 哲人

  (株)ルネサステクノロジ

• 渡會 慎一

  (株)ルネサステクノロジ

• 鈴木 猛司

  (株)ルネサステクノロジ

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