アセチレン燃焼炎法を用いたダイヤモンド薄膜の化学的気相合成に関する研究
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概要
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Chemical vapor deposition (CVD) method of diamond thin films using Acetylene combustion flame can obtain high growth rate and the deposition equipment is simple. In order to understand the diamond growth mechanism in Acetylene combustion flame method, we carried out experiments on various fuels (Acetylene)-oxygen equivalence ratios and substrate temperatures, and then the condition of diamond growth has been clarified. Further, we carried out numerical analysis of gaseous reaction mechanism in the process of depositing diamond thin films by Acetylene combustion flame method, and it has been estimated that CH_3, CH_2, C_2, C_2H_2, C_2H and H become important chemical species for diamond CVD.
- 岐阜工業高等専門学校の論文
- 1998-03-01
著者
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