熱フィラメントCVD法によるダイヤモンド薄膜合成における気相反応機構の解析について
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
To understand the fundamental chemical reaction mechanism in process of depositing diamond films by hot-filament CVD (Chemical Vapor Deposition), the relevant atomic and molecular processes have to be clarified. As the first step, in this study, an attempt to apply molecular dynamics to the analysis of gaseous reactions in the CH_4/H_2 system has been carried out by using a simplified model with Lennard-Jones potentials. Time dependent changes of chemical species concentrations by molecular dynamics calculations have been in qualitative agreement with those obtained by conventional continuum model.
- 岐阜工業高等専門学校の論文
- 1994-03-01
著者
関連論文
- 東海学生会の活動(東海学生会)(学生会だより)
- P-29 コース管理システムMoodleの英語演習問題用インタフェースの開発((12)教育ソフトウェア,ポスター発表論文)
- FPGAを用いた音源分離システムの開発
- 専攻科学生実験における自律移動ロボットの開発 : マイコン制御によるロボットランサーの設計・製作(低学年から専攻科までの創造教育)
- VR用入出力インターフェイスに関する研究(磁気角度センサとアクチュエー タの開発)
- 熱フィラメントCVD法によるダイヤモンド薄膜合成における気相反応機構の解析について
- 熱フィラメントCVD法によるダイヤモンド薄膜合成における気相反応機構の解析について
- 大気圧放電を用いた流動層型反応場におけるオゾン生成
- 流動層方式を用いた大気圧放電によるオゾン生成の基礎特性(熱工学)
- アセチレン燃焼炎法を用いたダイヤモンド薄膜の化学的気相合成に関する研究
- パルス変調RF放電プラズマの物質合成プロセスへの応用に関する研究(熱工学)
- 無声放電による非平衡プラズマ化学反応を用いたCVDシリコン酸化膜の特性 : 膜の形成と性質に及ぼす放電形態の影響
- 無声放電による非平衡プラズマ化学反応を用いたCVDシリコン酸化膜の特性 : 膜の形成と性質に及ぼす放電形態の影響(熱工学,内燃機関,動力など)
- 方形波パルス無声放電を用いた非平衡プラズマ化学反応による高段差被覆性シリコン酸化膜の形成
- 方形波パルス無声放電を用いた非平衡プラズマ化学反応の活性酸素種高効率生成への応用
- 「組込み系ディジタルシステム設計技術者育成プログラム」の実践