24pPSA-11 反応性スパッタ法による絶縁層AlNの研究(II)(薄膜・人工格子,微小領域,遍歴磁性酸化物,f電子系,実験技術開発等,領域3(磁性,磁気共鳴))

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概要

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• 社団法人日本物理学会の論文
• 2005-03-04

著者

• 椎木 一夫

  慶大理工

• 海住 英生

  慶大理工

• 原田 慎也

  慶大理工

• 五十嵐 一也

  慶大理工

• 椎木 一夫

  慶大院理工

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