原田 慎也 | 慶大理工

スポンサーリンク

概要

• 同名の論文著者
• 慶大理工の論文著者

関連著者

• 椎木 一夫

  慶大理工

• 原田 慎也

  慶大理工

• 海住 英生

  慶大理工

• 五十嵐 一也

  慶大理工

• 椎木 一夫

  慶大院理工

• 椎木 一夫

  慶應義塾大学大学院理工学研究科

• 西山 真生

  慶大理工

• 大高 悠毅

  慶大理工

• 藤田 滋雄

  慶大理工

• 椎木 一夫

  慶應義塾大学

• 海佳 英生

  慶大理工

• 原田 慎也

  慶應義塾大学大学院理工学研究科

もっと見る 閉じる

著作論文

• 24pPSA-20 XPSを用いたCo/AlO_x/Coスピントンネル素子の絶縁層の評価(IV)(薄膜・人工格子,微小領域,遍歴磁性酸化物,f電子系,実験技術開発等,領域3(磁性,磁気共鳴))
• 24pPSA-11 反応性スパッタ法による絶縁層AlNの研究(II)(薄膜・人工格子,微小領域,遍歴磁性酸化物,f電子系,実験技術開発等,領域3(磁性,磁気共鳴))
• 12aPS-13 反応性スパッタ法による Co/AlO_x/Co 接合の研究(磁性・磁気共鳴, 領域 3)
• 27aPS-46 反応性スパッタ法による絶縁層AINの研究(領域3ポスターセッション : 希土類合金,化合物磁性,薄膜・人工格子,スピングラス,フラストレーション,量子スピン系,実験技術開発等)(領域3)
• 27aPS-28 反応性スパッタ法によるAlO_xを絶縁層とする強磁性トンネル接合の研究(領域3ポスターセッション : 希土類合金,化合物磁性,薄膜・人工格子,スピングラス,フラストレーション,量子スピン系,実験技術開発等)(領域3)
• 反応性スパッタ法による薄膜AlO_xを絶縁障壁とする強磁性トンネル接合の作製
• 21pPSA-1 反応性スパッタ法による絶縁層薄膜を有する TMR 素子に関する研究
• 28pPSA-14 反応性スパッタ法で作製した絶縁層薄膜 AlO_x

スポンサーリンク