椎木 一夫 | 慶應義塾大学大学院理工学研究科

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著作論文

• 24pPSA-20 XPSを用いたCo/AlO_x/Coスピントンネル素子の絶縁層の評価(IV)(薄膜・人工格子,微小領域,遍歴磁性酸化物,f電子系,実験技術開発等,領域3(磁性,磁気共鳴))
• シミュレーションを用いた熱アシスト磁気記録高密度化の検討
• 反応性スパッタ法による薄膜AlO_xを絶縁障壁とする強磁性トンネル接合の作製

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