大高 悠毅 | 慶大理工
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概要
関連著者
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椎木 一夫
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大高 悠毅
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海住 英生
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海佳 英生
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椎木 一夫
慶應義塾大学大学院理工学研究科
著作論文
- 28pPSA-13 トンネル素子における XPS による AlO_x 障壁厚さの評価
- 24pPSA-9 Co/AlO_x/Co TMR素子の熱酸化による特性変化(薄膜・人工格子,微小領域,遍歴磁性酸化物,f電子系,実験技術開発等,領域3(磁性,磁気共鳴))
- 24pPSA-20 XPSを用いたCo/AlO_x/Coスピントンネル素子の絶縁層の評価(IV)(薄膜・人工格子,微小領域,遍歴磁性酸化物,f電子系,実験技術開発等,領域3(磁性,磁気共鳴))
- 24pPSA-12 Co/Al-oxide/Co TMR素子におけるリーク電流の特性評価(IV)(薄膜・人工格子,微小領域,遍歴磁性酸化物,f電子系,実験技術開発等,領域3(磁性,磁気共鳴))
- 24pPSA-6 トンネル確率の数値計算による障壁高さ・膜厚の評価(薄膜・人工格子,微小領域,遍歴磁性酸化物,f電子系,実験技術開発等,領域3(磁性,磁気共鳴))
- 12aPS-136 Co/Al-oxide/Co TMR 素子におけるリーク電流の特性評価 (3)(磁性・磁気共鳴, 領域 3)
- 12aPS-10 XPS を用いた Co/AlO_x/Co スピントンネル素子の絶縁層の評価 (III)(磁性・磁気共鳴, 領域 3)
- 12aPS-8 トンネル確率の数値計算による Al/Al-oxide/Al 素子の膜厚・障壁高さの推定(磁性・磁気共鳴, 領域 3)
- 27aPS-26 Co/Al-oxide/Co TMR素子におけるリーク電流の特性評価(2)(領域3ポスターセッション : 希土類合金,化合物磁性,薄膜・人工格子,スピングラス,フラストレーション,量子スピン系,実験技術開発等)(領域3)
- 27aPS-25 XPSを用いたCo/AlO_x/Coスピントンネル素子の絶縁層の評価(II)(領域3ポスターセッション : 希土類合金,化合物磁性,薄膜・人工格子,スピングラス,フラストレーション,量子スピン系,実験技術開発等)(領域3)
- トンネル接合におけるリーク電流の特性評価
- 21pPSA-3 XPS を用いた Co/AlO_x/Co スピントンネル素子の絶縁層の評価
- 21pPSA-2 Co/Al-oxide/Co TMR 素子におけるリーク電流の特性評価