面内横手磁気記録の可能性
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20aPS-7 電流制限型巨大磁気抵抗素子におけるノイズに関する研究II(20aPS 領域3ポスターセッション(薄膜・人工格子・表面・微小領域・スピントロニクス・遍歴・化合物磁性),領域3(磁性,磁気共鳴))
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20aPS-4 高周波磁場におけるアモルファス合金薄膜の磁化特性測定(20aPS 領域3ポスターセッション(薄膜・人工格子・表面・微小領域・スピントロニクス・遍歴・化合物磁性),領域3(磁性,磁気共鳴))
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20aPS-8 スピントンネル磁気抵抗素子におけるトンネル分光の温度依存性(20aPS 領域3ポスターセッション(薄膜・人工格子・表面・微小領域・スピントロニクス・遍歴・化合物磁性),領域3(磁性,磁気共鳴))
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18aPS-2 TMR素子Co/AlOx/Coの定電圧印可による絶縁破壊の研究(18aPS 領域3ポスターセッション(磁性),領域3(磁性,磁気共鳴))
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25pPSA-13 MgO・TMR素子の非弾性トンネル分光法を用いた評価(領域3ポスターセッション(スピントロニクス・遍歴磁性等),領域3,磁性,磁気共鳴)
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22aPS-71 TMR素子の絶縁破壊(領域3ポスターセッション(薄膜・人工格子,スピングラス,量子スピン系),領域3,磁性,磁気共鳴)
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18aPS-1 TMR素子の絶縁破壊(18aPS 領域3ポスターセッション(磁性),領域3(磁性,磁気共鳴))
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23aPS-7 Co/AlO_x/Co TMR素子の絶縁層AlO_xにおける熱酸化の影響III(23aPS 領域3ポスターセッション(磁性),領域3(磁性,磁気共鳴))
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23aPS-8 TMR素子Co/AlO_x/Coの絶縁破壊に関する研究(23aPS 領域3ポスターセッション(磁性),領域3(磁性,磁気共鳴))
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23aPS-9 TMR素子の絶縁破壊温度依存性(23aPS 領域3ポスターセッション(磁性),領域3(磁性,磁気共鳴))
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28pPSA-16 Al/AlO/Al トンネル素子におけるリーク電流の特性評価
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28pPSA-15 Al/AlO_x/Al トンネル接合における絶縁破壊に関する研究
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28pPSA-13 トンネル素子における XPS による AlO_x 障壁厚さの評価
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17pPSA-5 強磁性トンネル接合における絶縁層の組成と電気・磁気特性
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17pPSA-4 スピントンネル素子の高周波磁気インピーダンス効果に関する研究
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27aPS-15 Co/Al_2O_3/Co/NiOトンネル素子における高周波インピーダンス特性
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25a-PS-73 ルテニウム準安定相の予測
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20aPS-10 スピントンネル磁気抵抗素子における絶縁層の解析(20aPS 領域3ポスターセッション(薄膜・人工格子・表面・微小領域・スピントロニクス・遍歴・化合物磁性),領域3(磁性,磁気共鳴))
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20aPS-6 絶縁層の酸化状態を変化させたスピントンネル素子の絶縁破壊(20aPS 領域3ポスターセッション(薄膜・人工格子・表面・微小領域・スピントロニクス・遍歴・化合物磁性),領域3(磁性,磁気共鳴))
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3a-YC-1 遷移金属合金におよぼす局所的電荷中性条件の影響
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4a-PS-3 鉄窒素合金Fe_4Nの電子状態と磁性
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29a-PS-39 電荷中性条件を入れた遷移金属合金におけるKKR-CPA法の適用
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15a-PS-12 鉄合金に及ぼす置換型不純物元素の影響
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28a-PS-15 イオンビームスパッタ法により作製した鉄窒化膜
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スピントンネル素子の磁化状態シミュレーション
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27pPSB-5 CPP-GMR素子の電流分光(27pPSB 領域3ポスターセッション,領域3(磁性,磁気共鳴))
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24pPSB-45 強磁性ジグザク細線の磁区構造と電気伝導II
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fcc Niに及ぼす原子空孔の影響
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31p-PSA-55 FeRu合金の電子状態と磁性
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31p-PSA-65 Pdの磁性に対する原子空孔の影響
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31a-P-3 高原子空孔濃度下におけるPdの電子状態
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27pPSA-12 Co/AlO_x/Co TMR素子の絶縁層AlO_xにおける熱酸化の影響II(27pPSA 領域3ポスターセッション 薄膜・人工格子磁性,表面・界面磁性,微小領域磁性,遍歴磁性,化合物磁性,f電子系磁性磁性,領域3(磁性,磁気共鳴))
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21pPSA-12 TMR素子Co/AlO_x/CoのCo薄膜の磁化状態に関する研究(領域3ポスターセッション,薄膜・人工格子磁性,表面・界面磁性,微小領域磁性,遍歴磁性,化合物磁性,領域3(磁性,磁気共鳴))
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21pPSA-10 Co/AlO_x/Co TMR素子の絶縁層AlO_xにおける熱酸化の影響(領域3ポスターセッション,薄膜・人工格子磁性,表面・界面磁性,微小領域磁性,遍歴磁性,化合物磁性,領域3(磁性,磁気共鳴))
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21pPSA-9 Co/AlO_x/Co TMR素子の絶縁破壊現象に関する研究III(領域3ポスターセッション,薄膜・人工格子磁性,表面・界面磁性,微小領域磁性,遍歴磁性,化合物磁性,領域3(磁性,磁気共鳴))
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21pPSA-7 トンネル過程における非弾性トンネルの影響に関する研究(領域3ポスターセッション,薄膜・人工格子磁性,表面・界面磁性,微小領域磁性,遍歴磁性,化合物磁性,領域3(磁性,磁気共鳴))
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24pPSA-9 Co/AlO_x/Co TMR素子の熱酸化による特性変化(薄膜・人工格子,微小領域,遍歴磁性酸化物,f電子系,実験技術開発等,領域3(磁性,磁気共鳴))
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12aPS-9 Co/AlOx/CoTMR 素子の定電圧印加での絶縁破壊現象に関する研究(磁性・磁気共鳴, 領域 3)
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27aPS-30 Co/Al_/Co TMR素子における絶縁破壊現象に関する研究(領域3ポスターセッション : 希土類合金,化合物磁性,薄膜・人工格子,スピングラス,フラストレーション,量子スピン系,実験技術開発等)(領域3)
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23aPS-14 絶縁体薄膜の表面状態に関する研究(23aPS ポスターセッション,領域3(磁性,磁気共鳴))
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22aPS-56 絶縁層薄膜の表面状態に関する研究(領域3ポスターセッション(f電子,遍歴,化合物,酸化物,磁性一般,表面・界面),領域3,磁性,磁気共鳴)
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18aPS-3 TMR素子における絶縁層薄膜の表面状態と絶縁破壊の関係(18aPS 領域3ポスターセッション(磁性),領域3(磁性,磁気共鳴))
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24pWF-4 ニオブ/黒鉛複合膜における超伝導近接効果
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1p-YJ-10 グラファイト薄膜におけるキャリア密度の膜厚依存性の解析
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1p-YJ-9 第一原理計算による有限層数の黒鉛の電子状態
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28a-PS-19 第一原理計算による人工格子の巨大磁気抵抗効果
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28a-PS-12 Ni/Cu人工格子における磁性と電子状態
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28a-PS-8 Co_3/X_3人工格子の電子状態と巨大磁気抵抗効果
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24pPSA-20 XPSを用いたCo/AlO_x/Coスピントンネル素子の絶縁層の評価(IV)(薄膜・人工格子,微小領域,遍歴磁性酸化物,f電子系,実験技術開発等,領域3(磁性,磁気共鳴))
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24pPSA-12 Co/Al-oxide/Co TMR素子におけるリーク電流の特性評価(IV)(薄膜・人工格子,微小領域,遍歴磁性酸化物,f電子系,実験技術開発等,領域3(磁性,磁気共鳴))
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24pPSA-11 反応性スパッタ法による絶縁層AlNの研究(II)(薄膜・人工格子,微小領域,遍歴磁性酸化物,f電子系,実験技術開発等,領域3(磁性,磁気共鳴))
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24pPSA-6 トンネル確率の数値計算による障壁高さ・膜厚の評価(薄膜・人工格子,微小領域,遍歴磁性酸化物,f電子系,実験技術開発等,領域3(磁性,磁気共鳴))
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発振制御型磁気センシング法の応答特性
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12aPS-136 Co/Al-oxide/Co TMR 素子におけるリーク電流の特性評価 (3)(磁性・磁気共鳴, 領域 3)
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12aPS-13 反応性スパッタ法による Co/AlO_x/Co 接合の研究(磁性・磁気共鳴, 領域 3)
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12aPS-10 XPS を用いた Co/AlO_x/Co スピントンネル素子の絶縁層の評価 (III)(磁性・磁気共鳴, 領域 3)
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12aPS-8 トンネル確率の数値計算による Al/Al-oxide/Al 素子の膜厚・障壁高さの推定(磁性・磁気共鳴, 領域 3)
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27aPS-46 反応性スパッタ法による絶縁層AINの研究(領域3ポスターセッション : 希土類合金,化合物磁性,薄膜・人工格子,スピングラス,フラストレーション,量子スピン系,実験技術開発等)(領域3)
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27aPS-28 反応性スパッタ法によるAlO_xを絶縁層とする強磁性トンネル接合の研究(領域3ポスターセッション : 希土類合金,化合物磁性,薄膜・人工格子,スピングラス,フラストレーション,量子スピン系,実験技術開発等)(領域3)
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27aPS-26 Co/Al-oxide/Co TMR素子におけるリーク電流の特性評価(2)(領域3ポスターセッション : 希土類合金,化合物磁性,薄膜・人工格子,スピングラス,フラストレーション,量子スピン系,実験技術開発等)(領域3)
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27aPS-25 XPSを用いたCo/AlO_x/Coスピントンネル素子の絶縁層の評価(II)(領域3ポスターセッション : 希土類合金,化合物磁性,薄膜・人工格子,スピングラス,フラストレーション,量子スピン系,実験技術開発等)(領域3)
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トンネル磁気インピーダンス効果を用いた高感度磁気センシング方法
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スピントンネル素子を用いた新しい磁気センシング方法
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トンネル接合におけるリーク電流の特性評価
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スピントンネル接合のRF磁気インピーダンス効果
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25aPS-17 スピントンネル磁気抵抗素子における絶縁層の解析(25aPS 領域3ポスターセッション,領域3(磁性,磁気共鳴))
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オーバーライト時におけるオフトラックの記録磁化状態評価
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両面横手磁気記録再生法の検討
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17pPSA-44 遷移金属のキュリー点の第一原理計算
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21pPSA-11 数値計算によるAl/AlO_x/Al・Co/AlO_x/Coトンネル素子の膜厚・障壁高さの評価に関する研究(領域3ポスターセッション,薄膜・人工格子磁性,表面・界面磁性,微小領域磁性,遍歴磁性,化合物磁性,領域3(磁性,磁気共鳴))
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