20aPS-6 絶縁層の酸化状態を変化させたスピントンネル素子の絶縁破壊(20aPS 領域3ポスターセッション(薄膜・人工格子・表面・微小領域・スピントロニクス・遍歴・化合物磁性),領域3(磁性,磁気共鳴))

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概要

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• 2010-03-01

著者

• 椎木 一夫

  慶大理工

• 齋藤 隆文

  慶大理工

• 椎木 一夫

  慶大院理工

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