307 イオンミキシング蒸着法を用いた高硬度(Ti,B)N薄膜の作製と特性評価(GS-4 薄板・薄膜)
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概要
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We prepared (Ti, B)N films by ion mixing and vapor deposition (TVD) method. A hard film was successfully obtained at the evaporation ratio B_<va>/Ti^_<va> of 0.3. The maximum hardness of the films was approximately 5000Hk, this value is comparable to the hardness of cBN which is well known as very hard material.
- 2004-03-17
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