レーザー照射エナメル質初期齲蝕病巣の口腔内における変化

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概要

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:脱灰したヒトエナメル質人工裂溝に,波長248 nm のKrFエキシマレーザー(総エネルギー密度:172 J/cm^2),または波長532 nm のQスイツチNd:YAGレーザー第2高調波(総エネルギー密度:100 J/cm^2)を照射し,これらを健常成人の口腔内に1ヵ月間保持した。試料のミネラル分布はマイクロラジオグラフィにより定量的に評価した。レーザー照射試料における裂溝底部の脱灰深度l_d(μm)とミネラル喪失量△Z(vol%・μm)は,レーザー未処理の試料と比較して有意な差を示さなかった。また,再石灰化を示す明らかな所見はすべての試料で認められなかった。本研究の結果から,エナメル質初期齲蝕の表層下における脱灰はQスイツチNd:YAGあるいはKrFエキシマレーザーの照射によって抑制されない可能性が示唆された。
有限責任中間法人日本口腔衛生学会の論文
1998-10-30

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