Verification of Sheath Potential of Processing Plasma in an Electron-Beam-Excited Plasma Apparatus Using a Current Balance Equation

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概要

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• 社団法人応用物理学会の論文
• 1996-04-30

著者

• 藤井 稔

  神戸大院工

• Ito A

  Nihon Univ. Chiba Jpn

• Itoh Akihiro

  Department Of Physical Science Graduate School Of Engineering Science Osaka University:core Research

• Fujii Masatoshi

  Department Of Chemistry Graduate School Of Science Tokyo Metropolitan University

• MIYANO Ryuichi

  Department of Electronic Engineering, College of Engineering, Chubu University

• IZUMI Shinya

  Department of Electronic Engineering, College of Engineering, Chubu University

• KITADA Ryuji

  Department of Electronic Engineering, College of Engineering, Chubu University

• FUJII Motoyuki

  Department of Electronic Engineering, College of Engineering, Chubu University

• IKEZAWA Shunjiro

  Department of Electronic Engineering, College of Engineering, Chubu University

• ITO Akihiro

  Center of Engineering Development, CKD Lid.

• MIYANO Ryuichi

  Toyohashi University of Technology

• Kitada R

  Department Of Electronic Engineering College Of Engineering Chubu University

• Miyano R

  Chubu Univ.

• Miyano Ryuichi

  Department Of Electrical And Electronic Engineering Toyohashi University Of Technology

• Ikezawa S

  Prof. Ikezawa Lab Department Of Electrical Engineering Chubu University

• Ikezawa Shunjiro

  Department Of Electronic Engineering Chubu Institute Of Technology

• IKEZAWA Shunjiro

  Department of Electrical and Electronic Engineering, Graduate School of Engineering, Chubu University, Kasugai, Aichi 487-8501, Japan

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