3. ベンゾフェノン系除草剤に関する研究 : 第3報 NK-049の残留について
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概要
著者
-
山田 蔵
日本化薬
-
石田 秀弌
日本化薬(株)農薬事業部上尾研究所
-
宗像 桂
名古屋大学農学部
-
浅香 四郎
日本化薬上尾研
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宗像 桂
名古屋大学
-
石田 秀弌
日本化薬株式会社農薬部上尾研究所
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広瀬 清信
日本化薬
-
浅香 四郎
日本化薬
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