山田 蔵 | 日本化薬

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概要

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関連著者

• 山田 蔵

  日本化薬

• 二谷 文夫

  日本化薬上尾研究所

• 二谷 文夫

  日本化薬

• 伊藤 憲作

  日本化薬

• 小林 久文

  日本化薬

• 宗像 桂

  名古屋大学農学部

• 宗像 桂

  名古屋大学

• 石田 秀弌

  日本化薬株式会社農薬部上尾研究所

• 小林 賢司

  日本化薬

• 石田 秀弌

  日本化薬(株)農薬事業部上尾研究所

• 石田 秀弌

  日本化薬株式会社上尾研究所

• 加藤 彰一

  日本化薬株式会社

• 加藤 彰一

  日本化薬(株)

• 日比 克彦

  日本化薬

• 伊藤 憲作

  日本化薬株式会社王子製薬工場上尾圃場

• 二谷 文夫

  日本化薬株式会社農薬部上尾研究所

• 日比 克彦

  日本化薬株式会社農薬部上尾研究所

• 山田 蔵

  日本化薬株式会社農薬部上尾研究所

• 志田 篤彦

  日本化薬

• 浅香 四郎

  日本化薬上尾研

• 広瀬 清信

  日本化薬

• 浅香 四郎

  日本化薬

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著作論文

• 2. 新規クロロシス誘導型ジフェニルエーテル系化合物 3-(n)-propyl
• 1. 新規クロロシス誘導型ジフェニルエーテル系化合物の化学構造
• 35 新規クロロシス誘導化合物の除草活性 : アルキルチオジフェニルエーテル誘導体の化学構造と除草活性
• 34 新規クロロシス誘導化合物の除草活性 : アルキルチオクエニール誘導体の化学構造と除草活性
• 3,3'-Dimethyl-4-mothoxybenzophenone (NK-049) の水田除草剤としての特性 : 第2報 水稲に対する作用について
• 3,3'-Dimethyl-4-methoxybenzophenone (NK-049) の水田除草剤としての特性 : 第1報 殺草特性について
• 3. ベンゾフェノン系除草剤に関する研究 : 第3報 NK-049の残留について
• 1. ベンゾフェノン系除草剤に関する研究 : 第1報 ベンゾフェノン系化合物の化学構造と除草活性

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