Co_xFe_<1-x>磁性層を用いた強磁性トンネル接合
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概要
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強磁性トンネル接合の磁気抵抗比(TMR比)向上を目的としてCo_xFe_<1-x>/Al-O/Co_xFe_<1-x>(X=100及び90, 75, 60, 50)のトンネル接合を作製した。Co_<75>Fe_<25>の場合にTMR比が40%まで向上することを見出した。この40%を示した接合面積12×12μm^2の領域に形状効果は影響していない。さらに、Co_<75>Fe_<25>の場合、200℃の熱処理を行いTMR比が49%まで増加した。TMR比がバイアス電圧1mVの時から半減する電圧値であるV_hは360から455mVであり、Co_<75>Fe_<25>の場合、400mVにおいて20%を超えるMR比を示した。V_hはトンネルの障壁の高さに依存する傾向を示した。
- 社団法人映像情報メディア学会の論文
- 2000-09-08
著者
-
菅原 淳一
ソニー(株)
-
熊谷 静似
ソニー(株)
-
中塩 栄治
ソニー(株)
-
熊谷 静似
ソニー株式会社コアテクノロジー&コンポーネントカンパニーストレージ&デバイスカンパニーレーザー&マグネティックデバイス事業部
-
尾上 精二
ソニー株式会社コアテクノロジー&ネットワークカンパニー
-
中塩 栄治
ソニー株式会社コアテクノロジー&ネットワークカンパニー
-
菅原 淳一
ソニー株式会社コアテクノロジー&ネットワークカンパニー
-
尾上 精二
ソニー株式会社 コアテクノロジー&コンポーネントカンパニーストレージ&デバイスカンパニーレーザー&マグネティックデバイス事業部
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