高耐圧Zr_xSi_yN窒化物絶縁層の作製とZnS:Mn,LiF赤色系EL素子への応用(発光型/非発光型ディスプレイ合同研究会)
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概要
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無機EL素子用の高耐圧絶縁層および赤色系蛍光体材料の新規探索を目的とし、絶縁層および発光層薄膜を高周波スパッタ法により作製した。絶縁層については、従来のSi_3N_4絶縁層にZrを添加したZr_xSi_rN絶縁層において最適なZr濃度で9MV/cm以上の高い絶縁耐力が得られ、Si_3N_4絶縁層を使用したときよりも高電界を印加できるようになった。一方、薄膜EL素子における新しい赤色系の蛍光体材料として従来のZnS:MnにLiF共付活剤を添加したZnS:Mn,LiF発光層を作製し、LiF添加効果およびその濃度依存性を調べた。その結果、発光スペクトルにおいて670〜680nmにMn-F複合発光中心による赤色帯が認められ、最適濃度約0.7mol%を添加した発光層を用いた場合、カラーフィルター方式による赤色発光において色度座標(0.62,0.37)を得た。
- 社団法人映像情報メディア学会の論文
- 2002-01-24
著者
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