高耐圧Zr_xSi_yN窒化物絶縁層の作製とZnS:Mn,LiF赤色系EL素子への応用

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概要

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• 2002-01-24

著者

• 三上 明義

  金沢工業大学光電磁場科学応用研究所

• 山本 和志

  金沢工業大学、光電磁場科学応用研究所

• 三上 明義

  金沢工業大学

• 三上 明義

  金沢工業大学大学院工学研究科

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