形態知覚における同心円図形の処理段階に関する研究(視聴覚技術および一般)
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概要
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我々は線状外皮質(V4)が活動すると考えられている大局的な構造に対する視覚誘発電位(VEP)を研究した。ランダムドット刺激においてペアにしたドットの方位を操作することで、3つのテスト刺激(同心円、放射、平行パターン)とコントロール刺激(ランダムパターン)が知覚されるようにした。次にテスト刺激とコントロール刺激に対するVEPの差をとることで、大局的な構造に対する応答成分を抽出した。2つの刺激呈示条件(定常、過渡的)を使用した。定常条件では同心円パターンに対する応答は、放射や平行パターンのそれより大きかったが、その応答は2秒程度で減少した。過渡的状態では、同心円パターンと平行パターンの差が潜時200msec以降に見られた。f MRI実験によって同心円処理に関わる皮質領域が調べられた
- 2002-03-19
著者
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