形態知覚過程の中間段階に関する視覚誘発電位研究
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概要
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我々は線状外皮質(V4)が活動すると考えられている大局的な構造に対する視覚誘発電位(VEP)を研究した。ランダムドット刺激においてペアにしたドットの方位を操作することで、3つのテスト刺激(同心円、放射、平行パターン)とコントロール刺激(ランダムパターン)が知覚されるようにした。次にテスト刺激とコントロール刺激に対するVEPの差をとることで、大局的な構造に対する応答成分を抽出した。2つの刺激呈示条件(定常、過渡的)を使用した。定常条件では同心円パターンに対する応答は、放射や平行パターンのそれより大きかったが、その応答は2秒程度で減少した。過渡的状態では、同心円パターンと平行パターンの差が潜時200msec以降に見られた。このような同心円に対する応答の特徴が知覚との関連で考察される。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2001-11-11
著者
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