LQE2000-24 超短パルスレーザによる物質表面高機能化プロセシング
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概要
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フェムト秒レーザを用いたアブレーションにより物質表面の高機能化を実現した。BNセラミックスに関しては、フェムト秒レーザによる非熱的なアブレーションによりアブレーション部分の組成を変化させず、さらに周辺部分に融解の痕跡を残さない加工ができることを証明した。光触媒であるTiO_2に関しては、フェムト秒レーザを用いてTiO_2表面をアブレーションすることにより、高密度に穴をあけることが可能であることを実証した。これによりTiO_2の表面積を増大させることができるので、光触媒効果を向上させることができる。さらにレーザフルエンスを制御することで表面積の増加を制御できることを示した。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2000-06-14
著者
-
小原 實
慶應義塾大学 電子工学科
-
小原 實
自衛隊中央病院
-
小原 實
慶應義塾大学
-
高橋 孝輔
慶應義塾大学理工学部電子工学科
-
Obara M
Keio Univ. Yokohama Jpn
-
Obara Minoru
Department Of Electronics And Electrical Engineering Keio University
-
平山 陽一
慶大理工
-
平山 陽一
慶應義塾大学理工学部電子工学科
-
尾園 和恵
慶應義塾大学理工学部電子工学科
-
Barnier F.
慶應義塾大学理工学部電子工学科
-
Ogura Makoto
Department Of Electronics And Electrical Engineering Keio University
-
尾園 和恵
慶応義塾大学大学院 理工学研究科総合デザイン工学専攻
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