光学多層膜作製プロセスとその応用

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概要

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イオンあるいは原子ビームによるスパッタプロセスは、成膜速度は遅いものの低損失の光学膜を作ることができることで知られ、低温プロセスであるなど優れた利点を備えている。我々は、特に光通信分野への応用を目的として各種応用開発を行っている。今回はその中でプロセスの低温性を生かした光コネクタ端面及びポリイミド光導波路の端面へのフィルター形成について述べる。光コネクタ端面に形成した多層膜フィルターは1,000回の脱着試験に耐え、信頼性が高いことが確認された。また導波路への直接性膜によるフィルター形成では、1.3μmでの過剰損失が0.25dBという結果を得、WDMモジュールヘの応用が期待される。
社団法人電子情報通信学会の論文
1999-05-21

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