ポリイミド光導波路の開発
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概要
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フォトリソグラフィ技術による埋込み型光導波路はハイブリッド光集積回路の基板として光半導体素子や光ファイバとの結合に適しており、広範囲の応用展開が期待できる。我々は、特に低コスト光部品向けとしてSiウエハとフッ素化ポリイミド材料を利用した光導波路の開発を進めている。今回、直線/S字曲線/Y分岐といった基本導波路要素のシミュレーション及び試作/評価を行い、1.31μm/1.55μmの両波長帯に対してシングルモード導波を確認し、伝搬損失は波長1.31μmに対して0.30dB/cm、波長1.55μmに対して0.88dB/cmという結果を得た。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1998-05-15
著者
-
請地 光雄
日本航空電子工業(株)中央研究所
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宮下 拓也
日本航空電子工業(株)中央研究所
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加来 良二
日本航空電子工業(株)中央研究所
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加来 良二
日本航空電子工学(株)中央研究所
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請地 光雄
日本航空電子工業 中研
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