光通信用シリコンV溝基板の開発
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概要
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ローコストタイプの表面実装型光モジュールに使われるシリコンV溝基板を開発したのでその内容について報告する。この用途における市場要求は一言でいうと"コストと精度の両立"にある。我々は量産レベルにおいてV溝幅、メタルマーカーパターンについては±0.5μm、V溝とマーカーの相対位置精度ついてはほぼ0μmというパッシブアライメントに十分な精度を得た。これによりシリコンV溝基板が将来型光モジュールのキーパーツとしてきわめて有望であることを確認した。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1997-08-22
著者
-
前沢 卓也
日本航空電子工業株式会社
-
佐藤 光俊
日本航空電子工業株式会社
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前沢 卓也
日本航空電子工業(株)中央研究所
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高橋 あゆ美
日本航空電子工業(株)中央研究所
-
加来 良二
日本航空電子工業(株)中央研究所
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高山 清
日本航空電子工業株式会社
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高山 清
日本航空電子工業(株)中央研究所
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佐藤 光俊
日本航空電子工業(株)中央研究所
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加来 良二
日本航空電子工学(株)中央研究所
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原田 正
日本航空電子工業(株)光エレクトロニクス開発本部
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高橋 あゆ美
日本航空電子工学(株)中央研究所
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佐藤 光俊
日本航空電子工業
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