半導体、液晶プロセスにおける検査技術の動向
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概要
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半導体、液晶ディスプレイ(LCD)の製造プロセスで必要とされる計測検査装置を概説すると共に、ディジタル画像処理技術によるウェーハ外観検査装置と、空間フィルタ技術による基板異物検査装置の現状を紹介する。さらに、欠陥検査を中心とした外観検査について、その自動化における問題点、解決のための課題などについて述べる。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2001-06-14
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