北川 克一 | 東レエンジニアリング(株)エレクトロニクス事業本部開発センター
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概要
関連著者
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北川 克一
東レエンジニアリング(株)エレクトロニクス事業本部開発センター
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北川 克一
東レエンジニアリング(株)
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北川 克一
東レエンジニアリング
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小川 英光
東レエンジニアリング(株)エレクトロニクス事業本部開発センター
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杉山 将
東京工業大学情報理工学研究科
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杉山 将
東京工業大学
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鈴木 一嘉
東レエンジニアリング(株)
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杉山 将
東京工業大学 大学院情報理工学研究科
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平林 晃
山口大学工学部
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杉山 将
東京工業大学計算工学専攻
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小川 英光
東レエンジニアリング(株)
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小川 英光
東京工業大学大学院情報理工学研究科計算工学専攻
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小川 英光
東京工業大学工学部情報工学科
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輿水 大和
中京大学情報理工学部
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輿水 大和
中京大学
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中野渡 祥裕
パナソニック(株)システムソリューションズ社
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石井 明
立命館大学
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輿水 大和
中京大
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内藤 卓人
東京工業大学大学院総合理工学研究科
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松坂 拓哉
東京工業大学大学院情報理工学研究科
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下山 賢一
(株)東芝研究開発センター
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福永 正和
東京工業大学大学院情報理工学研究科
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石井 明
立命館大学理工学部
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北川 克一
東レ(株) エレクトロニクス機器開発センター
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平林 晃
東京工業大学大学院情報理工学研究科
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水谷 竜也
東京工業大学大学院理工学研究科
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永井 健
松下電器産業(株)半導体開発本部
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輿水 大和
中京大学情報科学部情報科学科
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平林 晃
山口大学 工学部 知能情報システム工学科
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大槻 真左文
東レエンジニアリング株式会社 エレクトロニクス事業本部 開発センター
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大槻 真左文
東レエンジニアリング (株)
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鈴木 一嘉
東レエンジニアリング (株)
著作論文
- 単色光干渉法による透明膜に覆われた物体の膜厚と表面形状の同時測定
- 2波長ワンショット干渉計測(ViEW推薦論文)
- 表面形状精密測定のための2波長ワンショット干渉法
- 白色光干渉法による透明膜に覆われた物体の膜厚と表面形状の同時測定
- 2波長ワンショット干渉計測
- 2波長ワンショット干渉計測 (特集 優れた画像処理研究に触れる--ViEW2007より)
- FA 信号処理に一般標本化定理を応用した光干渉式高速表面形状測定装置
- 信号処理に帯域通過型標本化定理を応用した光干渉式高速表面形状測定装置
- 画像基礎アルゴリズムの新展開(実世界における画像技術の応用)
- 表面形状と膜厚分布計測の最近の話題
- 白色干渉による微細3D計測とその応用
- 帯域通過型標本化定理を用いた白色光干渉による表面凹凸形状の高速測定
- AP-6-4 標本化定理の産業応用 : 光干渉計測における新しい信号処理アルゴリズム(AP-6.信号・画像の離散化、特に量子化法についての討論-OK量子化理論とその展望-,パネル討論,ソサイエティ企画)
- 半導体、液晶プロセスにおける検査技術の動向
- 白色干渉法による高速表面形状測定装置 (特集:外観検査技術)
- 東レエンジニアリング(株)の膜形状測定装置SP-500F--光干渉法による表面形状と膜厚分布の同時計測 (特集:最近の非接触三次元計測)
- 光干渉法による表面形状測定装置「SP-500」と透明膜計測への応用 (特集:エレクトロニクスとコンバーティング)
- 基調講演 超精密3次元形状計測の最新動向--白色干渉における革新的アルゴリズムの開発とその応用 (特集2 ViEW2006 ビジョン技術の実利用ワークショップ)
- 半導体・液晶プロセスにおける光干渉計測の応用
- 光干渉法による三次元計測
- 光干渉法による膜形状測定装置「SP-500F」とその応用
- 第9回小田原賞受賞 白色光干渉法による透明膜の3次元膜形状計測 (特集2 優れた画像処理研究に触れる)
- 東レエンジニアリングの膜形状測定装置SP-500F (製品特集:最近の非接触三次元計測)
- 光干渉法による微小段差計測の現状と展望 (特集 段差計測)
- 画像処理技術の開発と事業化 : 目視検査自動化の30年を振り返って