電子打込型CCD内蔵管 (EB-CCD)

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概要

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低照度領域の撮像を目的として、ICCD (Intensified CCD) に代わる高感度・高画質な新しい撮像素子、電子打ち込み型CCD内蔵管 (EB-CCD) を開発した。開発したEB-CCDでは、マルチアルカリ光電面から放出した電子を加速して、近接して配置した、電子に感度を有する裏面照射型CCDに入射して、ゲインを得ている。評価の結果、光電面最大印加電圧-8 (kV) にて、電子増倍ゲインは600倍であり、また、解像度は画素サイズで決まる限界値に近い18 (lp/mm) であることがわかった。また、CCDのノイズは-25℃に冷却すると13 (e RMS) であった。CCDのノイズがゲインより圧倒的に小さいことから予想された通り、開発したEB-CCDでシングルフォトンの撮像を確認した。
社団法人電子情報通信学会の論文
1997-10-23

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