A-3-21 配線長分布を用いた65nmプロセスにおける配線構造最適化手法(A-3. VLSI設計技術)

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概要

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• 社団法人電子情報通信学会の論文
• 2004-03-08

著者

• 岡田 健一

  東京工業大学大学院理工学研究科電子物理工学専攻

• 益 一哉

  東京工業大学

• 岡田 健一

  東京工業大学

• 井上 淳平

  東京工業大学精密工学研究所

• 中島 英斉

  東京工業大学精密工学研究所

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