Nb/M(M=Al,Au)多層膜の臨界温度
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概要
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超伝導体/(常伝導体、半導体、絶縁体)構成の多層膜の物性研究は、これまでかなりの年数に渡って行われている。我々は、超伝導/常伝導多層膜を作製し、その構造を分析すると共にそれぞれの膜厚変化に対する臨海温度の依存性を測定した。その結果を近接効果を用いて評価したので報告する。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1995-03-27
著者
-
吉森 茂
拓殖大学工学部電子システム工学科
-
吉森 茂
拓殖大学工学部
-
川村 光男
拓殖大学 工学部 電子工学科
-
川村 光男
拓殖大学工学部電子工学科
-
鍋谷 孝次
拓殖大学工学部電子工学科
-
川合 俊一
拓殖大学工学部電子工学科
-
水嶋 一彦
拓殖大学工学部電子工学科
-
竹井 秀
西東京科学大学理工学部電子情報科学科
-
内田 恭敬
西東京科学大学理工学部電子情報科学科
-
内田 恭敬
帝京科大 理工
-
吉森 茂
拓殖大学工学部電子工学科
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