後方強調光散乱によるランダム媒質中のステップ形状の認識
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概要
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光の多重散乱現象に対し, 従来では定性的な説明にとどまっていたが, 最近では理論的な解析が進んでいる。特に後方強調光散乱(コロイド溶液などのランダム媒質に平面波が入射すると内部で散乱を受け, その際散乱光は入射方向と正反対の方向で干渉を起こし, 緩慢散乱によるバックグラウンドの約2倍強くなり, 散乱光がピーク状の指向特性を示す。その指向特牲は横軸を入射方向と正反対の方向を0 [mrad]とした散乱角, 縦軸を散乱光の強度として描くと図1のcの様になる。この現象を以降は略してEBSと書く。)については理論的, 実験的にも解析が進んでいる。しかしその研究は, 単なる現象の解析ということにとどまっており, 応用を考えたようなものはほとんどなかった。そこで今回は後方強調光散乱という現象を実用面に応用するための研究を行なった。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1997-03-06
著者
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