電子ビーム励起プラズマによる光導波路用五酸化ニオブ薄膜の特性

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概要

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本研究では、制御性の良さが特徴である電子ビーム励起プラズマ(EBEP:Electron-Beam-Excited Plasma)装置の応用として、様々な種類の薄膜を成膜しようと試みている。その1つとして、導波路型光変調器を作成するために基板での電解が変化すると屈折率が変化する電気光学結晶を用いることを前提とした五酸化ニオブ薄膜の生成を行い、その屈折率、膜厚の制御を行った。その結果、光を導波させるための条件:導波層の屈折率n_f>基板の屈折率n_s>カバーの屈折率n_cを満たす薄膜の生成に成功した。これにより電気光学結晶を基板とした導波路型光変調器の作製を可能にした。
社団法人電子情報通信学会の論文
1999-05-20

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