磁壁移動検出方式における磁壁シミュレーション
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概要
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磁壁移動検出方式における磁区磁壁や界面磁壁の温度変化をシミュレーションし,フロントプロセスとリアプロセスの動作について考えた.フロントプロセスでは,交換結合の位置に対する急激な減少が,移動層の磁壁移動の小さなジッタの実現に寄与している.移動層/遮断層/記録層の構成では,フロントプロセスは起きるが,リアプロセスは起きない外部磁界が存在する.リアプロセスで移動層/制御層/遮断層/記録層の構成では,遮断層にできた界面磁壁が移動層に染み出すのを制御層が防ぎ,ゴーストが発生する臨界マーク長が長くなる.
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1999-03-05
著者
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