TbFeCo膜における磁気特性のスパッタガス種依存性(磁気光学・光磁気記録)
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
This paper investingates what the magnetic characteristics of TbFeCo films would become if Ar and Kr were used as sputtering gases. The sample structure was glass/underlayer SiN_x(u)/TbFeCo/protective layer SiN_x(p), and the top three layers were deposited by magnetron sputtering. When Kr gas was used, the coercive force H_c and effective perpendicular anisotropy K_<eff> increased. The increase was not dependent on the difference in Curie temperature. The type of sputtering gas used was changed for deposition of the SiN_x(u) and TbFeCo layers. Consequently, H_c increased when TbFeCo was deposited by using Kr gas. Changing the kind of sputtering gas used seldom affected SiN_x(u).
- 社団法人日本磁気学会の論文
- 2003-04-01
著者
-
藤原 裕司
三重大学大学院工学研究科
-
小林 正
三重大学大学院工学研究科物理工学専攻
-
藤原 裕司
三重大学工学部
-
小林 正
三重大学工学部
-
塩見 繁
三重大工
-
増田 守男
三重大
-
塩見 繁
三重大学大学院工学研究科
-
塩見 繁
三重大学工学部物理工学科
-
白鳥 力
キヤノン株式会社コアテクノロジー開発本部
-
白鳥 力
キヤノン株式会社 製品技術研究センター
-
森本 将仁
JR東海
-
稲垣 智広
三重大学工学部
-
増田 守男
三重大学工学部
-
小林 正
三重大学工学部物理工学科
関連論文
- 熱アシスト磁気記録における記録プロセスの検討(2) (マルチメディアストレージ)
- 熱アシスト磁気記録における記録プロセスの検討(II)(媒体,一般)
- Co2FeAl0.5Si0.5合金を用いたグラニュラー薄膜の磁気抵抗効果
- 強磁性金属-MgOグラニュラー薄膜の構造と磁気抵抗特性
- 熱アシスト磁気記録における記録プロセスの検討(光記録及び一般)
- CVD法による垂直配向カーボンナノチューブの成長と磁性薄膜触媒の磁気特性(光記録及び一般)
- CVD法による垂直配向カーボンナノチューブの成長と磁性薄膜触媒の磁気特性
- 表面波プラズマとアーク放電を用いたFe微粒子内包カーボンナノカプセルの合成とその磁気特性(薄膜・微粒子・多層膜・人工格子)
- 表面波プラズマを用いた磁性金属内包カーボンナノカプセルの作製
- ダブルトンネルジャンクションを用いたマグネティックトンネルトランジスタ(薄膜)
- マグネティックトンネルトランジスタにおける磁気電流効果および電流透過率の検討
- 空洞共振器法を用いたNiFe内包カーボンナノカプセルの高周波透磁率測定
- スピンバルブトランジスタにおける電流透過率の向上
- ホットエレクトロンを用いたTMR効果
- スピンバルブトランジスタにおけるコレクタ電流の磁界依存性
- 3端子構造を持つスピンバルブ膜の垂直方向電流の磁界依存性
- 3端子構造GMR素子における出力電流のバイアス電圧依存性
- SC-5-8 GMR膜をベースに用いたスピンバルブトランジスタ
- 電磁気学で遊ぶ
- 熱アシスト磁気記録における記録プロセスの検討
- フェロ磁性体とフェリ磁性体の磁化反転時間
- フェロ磁性体とフェリ磁性体の磁化反転時間(光記録,磁気記録一般)
- フェロ磁性体とフェリ磁性体の磁化反転時間 (マルチメディアストレージ)
- Gd-Fe-Co膜における磁気異方性と保磁力(磁気記録)
- 光磁気記録材料における交換結合(「磁性薄膜作製技術II」)
- RE-TM膜における磁気特性のスパッタガス種依存性
- 磁気超解像再生層の磁区構造
- 磁区構造シミュレーションによるCADマスク層の効果
- 3141 モノづくり動機付け授業のための伝動要素を用いた簡易ロボット競技会(S34-4 伝動装置の基礎と応用(4) 歯車の形状解析,ラック&ピニオン,その他,21世紀地球環境革命の機械工学:人・マイクロナノ・エネルギー・環境)
- 熱アシスト磁気記録における記録プロセスの検討(光記録及び一般)
- CVD法による垂直配向カーボンナノチューブの成長と磁性薄膜触媒の磁気特性(光記録及び一般)
- RE-TM膜における磁気特性のスパッタガス種依存性
- RE-TM膜における磁気特性のスパッタガス種依存性(光記録及び一般)
- RE-TM 膜における磁気特性のスパッタガス種依存性(光記録及び一般)
- RE-TM膜における磁気特性のスパッタガス種依存性
- 熱アシスト磁気記録における記録プロセスの検討(II)(媒体,一般)
- RE-TM膜における反強磁性交換結合(磁気光学・光磁気記録)
- DWDDとMAMMOSにおける磁壁移動シミュレーション
- RE-TM膜における反強磁性交換結合
- 反強磁性交換結合RE-TM膜における Kerr 効果
- TbFeCo膜における磁気特性のスパッタガス種依存性(磁気光学・光磁気記録)
- 微小マークにおける記録磁界シミュレーション
- TbFeCo膜における磁気特性のスパッタガス種依存性
- 磁壁移動検出方式における磁壁シミュレーション(III)
- RE-TM合金膜の保磁力と異方性(II)
- 磁壁移動検出方式における磁壁シミュレーション(II)
- DWDDの転写磁区構造
- 磁壁エネルギーによる磁壁移動シミュレーション(二次元モデル)
- 温度勾配による磁壁移動シミュレーション
- RE-TM合金膜の保磁力と異方性
- 磁壁移動検出方式における磁壁シミュレーション
- 磁壁エネルギーによる磁壁移動シミュレーション
- 磁壁移動検出方式における磁壁シミュレーション
- 磁壁移動検出方式における磁壁シミュレーション
- 磁壁移動検出方式における磁壁シミュレーション
- 磁性金属内包カーボンナノチューブの磁気特性
- アーク放電法によるγ-Feカーボンナノカプセルの合成
- スパッタと蒸着によるDy/Fe多層膜の構造異方性
- 3)希土類/遷移金属多層膜の構造と磁気異方性(画像情報記録研究会)
- RE-TM合金膜の磁化の温度特性
- Lu-TM合金薄膜の磁気特性
- CAD型MSRにおける再生層の磁気特性
- 交換結合三層膜の界面磁壁エネルギー
- 3)交換結合三層膜の磁気特性(III)(画像情報記録研究会)
- 交換結合三層膜の磁気特性(III)
- 交換結合三層膜の磁気特性(III)
- 交換結合三層膜の磁気特性(III)
- 交換結合三層膜の中間層磁気特性変化と界面磁壁エネルギー
- 交換結合三層膜に於ける界面磁壁エネルギーの温度変化
- 界面磁壁エネルギーの温度変化シミュレーション
- Co_2FeAl_Si_合金を用いたグラニュラー薄膜の磁気抵抗効果
- 磁気結合の光磁気ディスクへの応用
- RE-TM膜における磁気特性のスパッタガス種依存性
- DWDDにおける磁壁構造とエネルギー(II)
- DWDDにおける磁壁移動速度シミュレーション
- NaCl基板上に蒸着したCo/(Pt, Au)積層膜の構造と磁気特性
- 貴金属-遷移金属合金, 交換結合二層膜の磁気異方性と磁気円二色性
- 貴金属-遷移金属合金,交換結合二層膜の磁気異方性と磁気円二色性(高密度磁気ストレージ材料 : 開発の現状・未来と解析技術)
- Cr-Pt合金膜の磁気円二色性
- Gd/Fe多層膜の構造と内殻吸収磁気円二色性
- 29a-J-6 希土類/Fe多層膜のX線磁気円二色性
- 希土類/Fe多層膜の垂直磁気異方性とX線磁気円二色性
- 希土類/Fe多層膜の垂直磁気異方性とX線磁気円二色性
- 希土類/Fe多層膜の垂直磁気異方性とX線磁気円二色性
- GMR薄膜を用いたスピンバルブトランジスタの作製
- レーザアブレーションにより成膜した Co-C薄膜の磁気特性
- Pt下地層上に作成したCo-Pt合金膜の構造と磁気異方性
- Gd-Co/Ni-O交換結合二層膜の磁気特性
- 交換結合三層膜の磁気特性(V)
- NaCl基板上に蒸着したFePt合金膜の磁気特性
- DWDDにおける磁壁構造とエネルギー
- 交換結合三層膜の磁気特性(IV)
- 7)交換結合三層膜の磁気特性(II)(画像情報記録研究会)
- 交換結合三層膜の磁気特性(II)
- Gd-Co/反強磁性交換結合二層膜の磁気特性 : 画像情報記録
- Gd-Co/反強磁性交換結合二層膜の磁気特性
- Gd-Co/反強磁性交換結合二層膜の磁気特性(II)
- 磁気記録における情報安定性 (マルチメディアストレージ)
- 磁気記録における情報安定性(映像情報機器および一般)
- 磁気記録における情報安定性