パルス反射法ビーム形成における不要応答強度とその波形依存性
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概要
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配列型振動子を用いた超音波ビームの走査により物体形状を画像化する装置の解像度は超音波ビームの品質により決定される。このため、配列素子の個数がl00個程度に増大し、ビーム形成を行う整相部の構成が大規模になり、この部分の精度に対する要求も高度になっている。本報告は、装置精度とビームの目的方位以外の方向に対する応答である不要応答との関係をパルス反射法特有の短パルス波について理論解析している。この結果、不要応答強度が装置精度に依存する項とパルス包絡線形状に依存する項との積で与えられ、エネルギーを一定にして比較するとパルス包絡線形状に対する依存性を見かけ上小さくできることを示し、理論解析の結果を数値シミュレーション結果により確かめている。
- 社団法人日本音響学会の論文
- 1988-09-01
著者
-
梅村 晋一郎
(株)日立製作所中央研究所
-
梅村 晋一郎
日立製作所 中央研究所 メディカルシステム研究部
-
片倉 景義
(株)日立製作所 情報通信事業部
-
近藤 真一
日立製作所中央研究所
-
近藤 真一
日立製作所
-
片倉 景義
日立製作所情報通信事業部
-
片倉 景義
日立製作所中央研究所
-
梅村 晋一郎
京大 医
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